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J-GLOBAL ID：200903009587548995

光学薄膜の製造方法

Inventor： 石倉 淳理 ,  大谷 実 ,  藤村 秀彦 ,  沢村 光治
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993318943
Publication number (International publication number)：1995150356
Application date： Nov. 25, 1993
Publication date： Jun. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 液体を使わずに多孔質の光学薄膜を製造する。【構成】 合成石英基板の表面にSiO2 とMgF2 の混合膜を真空蒸着によって成膜したうえで、CF4 のガスプラズマを用いたガスプラズマエッチングによってSiO2 を除去し、MgF2 の多孔質膜を製造した。製造された多孔質膜の屈折率は1.28であり、多孔質でないMgF2 膜に比べて大きく低下しており、またレーザ耐力も大幅に向上した。

Claim (excerpt)：

基板の表面に複数の物質からなる混合膜を成膜する工程と、成膜された混合膜にガスを接触させ、その化学反応によって前記複数の物質のうちの少くとも1つを除去する工程を有することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (4)：

C23C 14/58 ,  B29D 11/00 ,  C23C 14/02 ,  G02B 1/11