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J-GLOBAL ID:200903009592915327

異常放電検出装置および検出方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡辺 喜平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000137540
Publication number (International publication number):2001319922
Application date: May. 10, 2000
Publication date: Nov. 16, 2001
Summary:
【要約】【課題】 プラズマを利用した半導体製造装置等のプラズマ処理装置の反応室内で発生する異常放電を確実に検出し、異常放電の発生位置を正確に検出する。【解決手段】 異常放電による発光を反応室11の壁部に設けられた窓21を通して計測手段22により二次元画像として計測して、この二次元画像を処理手段23により処理し、異常放電による発光を検出することにより、異常放電を検出すると共に、二次元画像から異常放電の発生位置を正確に特定する。
Claim (excerpt):
真空の反応室内にてプラズマを用いて被処理物の処理を行なうプラズマ処理装置において、反応室の壁部に設けられた窓を通して内部を二次元画像として計測する計測手段と、計測手段により計測した画像情報を処理して、異常放電を検出する処理手段と、を設けたことを特徴とする、異常放電検出装置。
IPC (7):
H01L 21/3065 ,  C23C 14/52 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/46
FI (7):
C23C 14/52 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/00 A ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 E
F-Term (28):
4K029BD01 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029EA06 ,  4K029GA02 ,  4K030CA04 ,  4K030DA08 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  4K030KA36 ,  4K030KA39 ,  4K030LA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA06 ,  5F004BC03 ,  5F004BC06 ,  5F004CB09 ,  5F045AA08 ,  5F045AA19 ,  5F045BB20 ,  5F045DP03 ,  5F045EH14 ,  5F045GB08 ,  5F045GB15 ,  5F103AA08 ,  5F103BB51 ,  5F103RR04 ,  5F103RR07

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