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J-GLOBAL ID：200903009598633609

人工低透水層の構築方法

Inventor： 清水 孝昭 ,  田屋 裕司 ,  平井 芳雄 ,  青木 雅路 ,  森 国光 ,  奥田 信康
Applicant, Patent owner： 株式会社竹中工務店
Agent (1)： 山名 正彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001373112
Publication number (International publication number)：2003171940
Application date： Dec. 06, 2001
Publication date： Jun. 20, 2003
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 地下水位が高い砂地盤又は砂礫地盤における大深度の地下工事に際し、地下水位低下工法の一種として採用される人工低透水層の構築方法を提供する。【解決手段】 施工対象地盤の一方に注水井戸3Aを設置し、他方に揚水井戸3Bを設置する。注水井戸から少なくとも2種の水溶液X,Yを同時に若しくは別々に地盤中へ注入し、揚水井戸からは揚水を行い、地盤中に局所的な動水勾配を形成して地下水流れを生じさせ浸透を促進させる。地盤中で前記2種の水溶液を接触させ反応させることによって地盤中に微細で水に難溶性の析出物を生成させ地盤の透水性を低下させる。

Claim (excerpt)：

透水性の砂地盤又は砂礫地盤中に少なくとも2種の水溶液を注入し浸透させて反応させ、地盤中に微細粒を生成させて人工低透水層を構築する方法において、施工対象地盤の一方に注水井戸を設置し、他方に揚水井戸を設置すること、前記注水井戸から少なくとも2種の水溶液を、同時に若しくは別々に地盤中へ注入し、揚水井戸からは揚水を行い、地盤中に局所的な動水勾配を形成して地下水流れを生じさせ浸透を促進すること、地盤中で前記2種の水溶液を接触させ反応させることによって地盤中に微細で水に難溶性の析出物を生成させ地盤の透水性を低下させることを特徴とする、人工低透水層の構築方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 人工難透水層の構築方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-243780   Applicant：大成建設株式会社
• 地盤の止水剤及び地盤の止水方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-277374   Applicant：三菱マテリアル株式会社
• 薬液注入工法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-205228   Applicant：株式会社大林組, 東亞合成株式会社