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J-GLOBAL ID：200903009617984060

図形描画方法

Inventor： 小島 剛
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992275847
Publication number (International publication number)：1994124350
Application date： Oct. 14, 1992
Publication date： May. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明は、図形のワイヤーフレームとして使われる線分を描画する図形描画方法に関し、描画処理を高速化する方法を提供することを目的とする。【構成】表示装置上に描画される図形の位置を示す図形描画領域の指定情報と、図形の輪郭を形成する線分情報と、前記図形描画領域から通常座標への座標変換である同次通常座標変換を省略する平行投影描画法の指定情報と、属性の設定を省略するという指定情報とがデータとして設定されたフラグ1を設け、図形の第1の頂点及び第2の頂点に対し、前記図形描画領域内にあると判定され、当該図形の属性データが前記フラグのデータと一致している場合に、当該第2の頂点に対する前記同次通常座標変換及び図形の属性の設定を省略するパス2へ移行して描画処理を行ない、前記図形描画領域内にある図形の第3の頂点に対しても、前記パス2において描画処理を行なう構成とする。

Claim (excerpt)：

図形の頂点の位置を示す図形データ及び当該図形の描画形式を示す属性データに基づき、当該図形を表示装置上に描画する方法であって、前記図形の頂点に対し、前記表示装置上に描画される図形の位置を示す図形描画領域への座標変換、及び前記図形描画領域の内か外かの判定を行ない、更に、前記図形描画領域内にあると判定した頂点と前記図形描画領域外にある場合には図形描画領域外処理を施した頂点に対し、前記図形描画領域から通常座標上への座標変換である同次通常座標変換、及び前記属性データによる図形の属性の設定を行なう描画処理によって図形を描画する方法において、表示装置上に表示される図形の描画形式について、前記図形描画領域の指定情報と、図形の輪郭を形成する線分情報と、前記同次通常座標変換を省略する平行投影描画法の指定情報と、属性の設定を省略するという指定情報とがデータとして設定されたフラグ(1)を描画装置内に設け、前記描画処理が施される図形の第1の頂点に対し、前記図形描画領域内にあると判定され、且つ図形の第2の頂点に対し、前記図形描画領域内にあると判定されると、前記フラグの参照を行ない、当該図形の属性データが前記フラグに設定されたデータと一致している場合に、当該第2の頂点に対する前記同次通常座標変換及び属性の設定を省略するパス(2)へ移行して描画処理を行ない、なお且つ図形の第3の頂点に対し、前記図形描画領域内にあると判定された場合には、前記パス(2)において描画処理を行なうことを特徴とする図形描画方法。