Pat
J-GLOBAL ID：200903009642539593
ウェハーフォーク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
波多野 久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993266225
Publication number (International publication number)：1995122614
Application date： Oct. 25, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：
【要約】【目的】静電気によるごみの付着や不純物によるウェハーの汚染が少なく、またそり等の発生が少なく高強度で高寸法精度を有し、かつ加工が容易なウェハーフォークを提供する。【構成】半導体製造工程において半導体ウェハーを保持して順次搬送するウェハーフォーク1において、少なくとも半導体ウェハー8と接触する部位を導電性セラミックスで形成したことを特徴とする。また導電性セラミックスの電気抵抗は10-1Ω・cm以下に設定するとよい。
Claim (excerpt)：
半導体製造工程において半導体ウェハーを保持して順次搬送するウェハーフォークにおいて、少なくとも半導体ウェハーと接触する部位を導電性セラミックスで形成したことを特徴とするウェハーフォーク。
IPC (2)：
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