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J-GLOBAL ID：200903009676648588

193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-アミノ熱硬化下塗り

Inventor： パトリック・フォスター ,  シドニー・ジョージ・スレイター ,  トマス・スタインハウスラー ,  アンドルー・ジェイ・ブレイクニー ,  ジョン・ジョウゼフ・ビアフォー
Applicant, Patent owner： アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
Agent (4)： 高木 千嘉 ,  西村 公佑 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003419661
Publication number (International publication number)：2004185017
Application date： Dec. 17, 2003
Publication date： Jul. 02, 2004
Summary：

【課題】化学増幅型二層レジスト系のための下塗り層として有用な熱硬化性ポリマー組成物、及びそれで被覆した光リソグラフィー基板の提供。【解決手段】ヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び下記一般式の熱酸発生剤からなる熱硬化性ポリマー組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基板、(a)基板上の熱硬化下塗り、及び(b)熱硬化下塗りの上の放射線感受性レジスト上塗りからなる光リソグラフィー感受性被覆基板。ここで前記熱硬化下塗りはヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び熱酸発生剤を含む熱硬化組成物からなる。

IPC (4)：

G03F7/11 ,  C08F220/28 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

FI (4)：

G03F7/11 503 ,  C08F220/28 ,  G03F7/26 511 ,  H01L21/30 502R

F-Term (29)：

2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025DA23 ,  2H025DA29 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA14 ,  2H025FA41 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA05 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096KA02 ,  2H096KA19 ,  4J100AL03P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09P ,  4J100BA76R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• ハレーション止め組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-328816   Applicant：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
• 深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-582851   Applicant：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
• 特許第3778485号
  
• 193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-アミノ熱硬化下塗り
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-419662   Applicant：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Thermal stability of silicon-containing methacrylate based bilayer resist for 193 nm lithography