光学用合成石英ガラス

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：浅野豊司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992360334
Publication number (International publication number)：1994199531
Application date： Dec. 29, 1992
Publication date： Jul. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】長時間エキシマレーザを照射しても、吸収帯の生成のない、安定した光学用合成石英ガラスを提供する。【構成】四塩化珪素を酸素と水素の割合を化学量論的必要量より過剰の水素の酸水素火炎中で加水分解して石英ガラスを合成し、かつ、石英ガラスの合成時にバーナーの反応条件および排ガスの排気条件を調整して得られるOH基が1000ppm以上の石英ガラスを用いた光学用合成石英ガラス。

Claim (excerpt)：

四塩化珪素を酸水素火炎中で加水分解した合成石英ガラスにおいて、酸水素火炎の酸素と水素の比が化学量論的必要量より過剰の水素の存在下で合成し、かつ、OH基を1000ppm以上含有してなる光学用合成石英ガラス。

IPC (3)：

C03B 19/14 , C03B 20/00 , H01S 3/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平4-021540
特開平4-130031
特開平1-167258

Show all

Return to Previous Page