ホスホノメチル化キトサン

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡部正夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995305289
Publication number (International publication number)：1996225601
Application date： Nov. 24, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】下記式のくり返し単位を含むホスホノメチル化キトサン【化11】[式中、R1 は水素または下記式の残基【化12】であり、R2 は上記式(1a)の残基であり、nは50乃至4000である]を提供する。この化合物は、金属イオン封鎖剤、漂白剤の安定剤、化粧品中の湿潤剤として有用である。

Claim (excerpt)：

下記式のくり返し単位を含むホスホノメチル化キトサン【化1】[式中、R1は水素または下記式の残基【化2】(式中、X1 とX2 とは互いに独立的に水素、C1-C5 アルキルまたはアルカリ金属イオン、またはアンモニウムイオンである)であり、R2は上記式(1a)の残基であり、nは50乃至4000である]。

IPC (6)：

C08B 37/08 , A61K 7/00 , A61K 7/48 , C09K 3/00 108 , C11D 3/395 , D06L 3/00

FI (6)：

C08B 37/08 A , A61K 7/00 J , A61K 7/48 , C09K 3/00 108 A , C11D 3/395 , D06L 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

特開平4-149202
N-置換キトサン誘導体、その製造方法及びその用途
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-069517 Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
特表平4-506981

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Cited by examiner (7)

特開平4-149202
N-置換キトサン誘導体、その製造方法及びその用途
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-069517 Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
特表平4-506981

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