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J-GLOBAL ID：200903009700061054

高分子フィルム光導波路及びその製造方法

Inventor： 松浦 徹 ,  安藤 慎治 ,  佐々木 重邦 ,  山本 二三男 ,  丸尾 容子
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 中本 宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994054376
Publication number (International publication number)：1995239422
Application date： Mar. 01, 1994
Publication date： Sep. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 屈折率の相異なる2種類以上の高分子を用いて、光損失が小さく、柔軟性を有する高分子フィルム光導波路を提供する。【構成】 コアとクラッドが高分子材料で構成されてなる高分子フィルム光導波路において、高分子フィルムが、導波路構造形成後に、少なくとも1回の熱処理をされてなるものである高分子フィルム光導波路。基板上に高分子材料で光導波路を作製し、該光導波路を該基板からはく離した後、該光導波路に熱処理を行う高分子フィルム光導波路の製造方法。有機溶媒に可溶なポリイミドを380°C以上での熱処理を行い、コア又はクラッドを形成する高分子フィルム光導波路の製造方法。ポリイミド層上にポリアミド酸溶液を塗布し、キュアする高分子フィルム光導波路の製造方法。

Claim (excerpt)：

コアとクラッドが高分子材料で構成されてなる高分子フィルム光導波路において、前記高分子フィルムが、導波路構造形成後に、少なくとも1回の熱処理をされてなるものであることを特徴とする高分子フィルム光導波路。

IPC (3)：

G02B 6/12 ,  C08G 73/10 NTF ,  G02B 6/13

FI (2)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-281406