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J-GLOBAL ID：200903009766145798
ウエット処理装置および電解活性水生成方法およ びウエット処理方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994056106
Publication number (International publication number)：1995263391
Application date： Mar. 25, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：
【要約】【目的】電解活性水の半導体プロセスへの適用を実現するにあたり、ウエット処理液として最適であるような電解活性水の効率的生成方やリサイクルを実現できるウエット処理装置、電解活性水生成方法、それにウエット処理方法を提供する。【構成】電解槽の陽極部で生成される電解活性水に対しては、塩素ガス、塩化水素ガス、臭化水素ガスあるいは沃化水素ガスの内の少なくとも1種類の気体を水に溶存させるか、あるいは該気体を陽極部に供給しながら電気分解を行うことによって、安定した特性の陽極水を得る。電解槽の陰極部で生成される電解活性水に対しては、アンモニアガスを水に溶存させるか、あるいはアンモニアガスないし窒素ガスを陰極部に供給しながら電気分解を行うことによって、安定した特性の陰極水を得る。
Claim (excerpt)：
水の電気分解部を有し、塩素ガスあるいは塩化水素ガスあるいは臭化水素ガスあるいは沃化水素ガスの内の少なくとも1種類を含む気体を水に供給する機構を有し、さらには該気体を溶存させた水を該電気分解部の陽極側に供給して電気分解を行う機構を有していることを特徴とするウエット処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/306
