Pat

J-GLOBAL ID：200903009782030062

半導体装置の洗浄方法と洗浄装置

Inventor： 大西 照人 ,  松元 道一 ,  三由 裕一
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993130337
Publication number (International publication number)：1994342780
Application date： Jun. 01, 1993
Publication date： Dec. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 キャリアの搬送機構からの発塵をなくし、洗浄装置の占有面積を縮小させる。【構成】 本発明の洗浄装置は、洗浄、水洗、乾燥を1つの処理槽1で実施し、1つ以上の薬液タンク6a〜6cと、処理槽1内の液を循環させるポンプ4と、循環系1内のパーテイクルを除去するためのフィルタ5と、処理槽1内を排気、排液するライン7と、処理槽1内に気体を充填できるライン8と、薬液タンク及び処理槽には加熱手段21を備え、処理槽内は気密にできるものである。

Claim (excerpt)：

処理槽1槽だけで洗浄、水洗、乾燥を行うことを特徴とする半導体装置の洗浄方法。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 361 ,  B08B 3/04