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J-GLOBAL ID：200903009784618202

断層像再構成方法

Inventor： 中 澤 哲 夫 ,  宮 崎 靖 ,  右 田 晋 一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立メディコ
Agent (1)： 西山 春之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996083975
Publication number (International publication number)：1997271471
Application date： Apr. 05, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 断層像再構成方法において、あらゆる種類のフィルタを用意することなく被検体の撮影部位に応じて最適な画質の断層像を再構成することを可能とする。【解決手段】 被検体の撮影部位について得られた投影データから画像を再構成するに当たり、この投影データに対する逆投影処理による画像のボケをフィルタ処理によって予め補正し、この補正後の投影データに対して逆投影処理を施すことにより断層像を再構成する断層像再構成方法において、上記逆投影処理による画像のボケを補正するフィルタ処理は、上記被検体の撮影部位に適した基本的な原フィルタ関数に対し、任意の周波数領域を所定の強調度又は抑制度まで強調又は抑制する強調又は抑制関数を乗じて得られたフィルタ関数を用いてフィルタリングするものである。これにより、あらゆる種類のフィルタを用意することなく被検体の撮影部位に応じて最適な画質の断層像を再構成することができる。

Claim (excerpt)：

被検体の撮影部位について断層面の投影データをあらゆる角度方向から計測し、この計測した投影データに検出器の特性に応じた補正等の前処理を施し、得られた投影データから画像を再構成するに当たり、この投影データに対する逆投影処理による画像のボケをフィルタ処理によって予め補正し、この補正後の投影データに対して逆投影処理を施すことにより断層像を再構成する断層像再構成方法において、上記逆投影処理による画像のボケを補正するフィルタ処理は、上記被検体の撮影部位に適した基本的な原フィルタ関数に対し、任意の周波数領域を所定の強調度又は抑制度まで強調又は抑制する強調又は抑制関数を乗じて得られたフィルタ関数を用いてフィルタリングすることを特徴とする断層像再構成方法。

IPC (2)：

A61B 6/03 350 ,  G06T 5/20

FI (2)：

A61B 6/03 350 S ,  G06F 15/68 400 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-232538
  
• 特開昭63-183045
  
• 特開昭58-149740