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J-GLOBAL ID：200903009796073660

露光装置

Inventor： 森重 幸雄
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992200726
Publication number (International publication number)：1994053105
Application date： Jul. 28, 1992
Publication date： Feb. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】露光時間を短縮させる。【構成】複数の半導体レーザ光源501がアレイ状に配置された半導体レーザアレイユニット5と、半導体レーザ光源501からのレーザ光の照射によって感光する感光剤10が塗布された基板1を保持するX-Y-Zステージ9と、複数の半導体レーザ光源501からのそれぞれの出射光を所望の形状に変換して基板1に照射するコリメートレンズアレイ6,スリットアレイ7及び結像レンズアレイ8から成るアレイ状の光学系と、複数の半導体レーザ光源501とアレイ状の光学系とを基板1上に保持する光学系保持機構11と、X-Y-Zステージ9の動きを制御するステージコントローラ4と、複数の半導体レーザ光源501の光のオン/オフを制御する半導体レーザアレイコントローラ3と、ステージコントローラ4及び半導体アレイコントローラ3の動作を予め定められた露光パターンデータに基づき同期させて制御する制御ユニット2とを有して構成している。

Claim (excerpt)：

複数の半導体レーザ光源がアレイ状に配置されたアレイユニットと、前記半導体レーザ光源からのレーザ光の照射によって感光する感光剤が塗布された基板を保持するステージと、前記複数の半導体レーザ光源からのそれぞれの出射光を所望の形状に変換して前記基板に照射するアレイ状の光学系と、前記複数の半導体レーザ光源と前記アレイ状の光学系とを前記基板上に保持する保持機構と、前記ステージの動きを制御するステージコントローラと、前記複数の半導体レーザ光源の光のオン/オフを制御する半導体レーザアレイコントローラと、前記ステージコントローラ及び前記半導体アレイコントローラの動作を予め定められた露光パターンデータに基づき同期させて制御する制御ユニットとを有していることを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特公昭49-012052
  
• 特開昭53-093371