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J-GLOBAL ID：200903009807275421

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
佐々木知也

About 佐々木知也

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水谷 一良

About 水谷 一良

, 
漢那 慎一

About 漢那 慎一


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002126433
Publication number (International publication number)：2003316007
Application date： Apr. 26, 2002
Publication date： Nov. 06, 2003
Summary：
【要約】【課題】 160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像で、現像液に対する接触性に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)-SO2-O-基を有する繰り返し単位を少なくとも1種有し、更にフッ素原子と酸分解性基とを有する繰り返し単位を少なくとも1種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式(I)又は(II)で表される繰り返し単位を少なくとも1種有し、更に下記一般式(IA)〜(VIA)から選ばれる繰り返し単位を少なくとも1種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)〜(II)中、RX1及びRY1は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。L1は、2価の連結基を表す。m1及びm2は、0又は1を表す。Ra1及びRb1は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。Q1は、脂環式炭化水素基を表す。Rbは、水素原子、有機基又はハロゲン原子を表す。lは、0〜3の整数を表す。L2は、単結合又は2価の連結基を表す。【化2】一般式(IA)〜(VIA)中、R1及びR2は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又はトリフルオロメチル基を表す。Xは、酸の作用により分解する基を表す。R3a及びR4aは、酸の作用により分解する基を表す。R11〜R16、R21〜R32、R41〜R46、R51〜R56は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。但しR11〜R16の少なくとも1つ、R21〜R32の少なくとも1つ、R41〜R46の少なくとも1つ又はR51〜R56少なくとも1つはフッ素原子である。nは、1〜5の整数を表す。
IPC (5)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 12/30 ,  C08F 32/00 ,  C08F220/00 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 12/30 ,  C08F 32/00 ,  C08F220/00 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (38)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AE38Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL26P ,  4J100AL26Q ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA22Q ,  4J100BA58P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
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