ハードマスク層としてのシリコン含有反射防止組成物

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：坂口博 , 市位嘉宏 , 上野剛史
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004521395
Publication number (International publication number)：2005520354
Application date： Jul. 11, 2002
Publication date： Jul. 07, 2005
Summary：

【課題】リソグラフィ法において有用な新規の反射防止コーティング/ハードマスク組成物の提供。【解決手段】ペンダント発色団部分を有するSiO含有ポリマーが存在することを特徴とする反射防止組成物は、リソグラフィ法に有用な反射防止コーティング/ハードマスク組成物である。この組成物は、傑出した光学特性、機械特性およびエッチング選択性を有し、かつスピンオン塗布技術を使用して塗布することができる。この組成物は特に、基板上のその下の材料層、特に金属または半導体層を成形するのに使用されるリソグラフィ法において有用である。

Claim (excerpt)：

スピンオン反射防止層の形成に適した組成物であって、 (a)SiO部分および発色団部分を含むポリマーと、 (b)架橋成分と、 (c)酸発生剤とを含む組成物。

IPC (4)：

H01L21/3213 , C08K5/00 , C08L83/04 , H01L21/312

FI (4)：

H01L21/88 C , C08K5/00 , C08L83/04 , H01L21/312 C

F-Term (25)：

4J002CC132 , 4J002CC182 , 4J002CD002 , 4J002CP031 , 4J002EE037 , 4J002EJ036 , 4J002EU136 , 4J002EU186 , 4J002EU236 , 4J002EV237 , 4J002FD142 , 4J002GP03 , 4J002GQ05 , 5F033MM01 , 5F033QQ04 , 5F033QQ08 , 5F033QQ09 , 5F033QQ28 , 5F033QQ37 , 5F033WW01 , 5F058AA05 , 5F058AC03 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (18)

米国特許第4371605号
米国特許第4855017号
米国特許第5362663号

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Cited by examiner (5)

ポジ型パタン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-319784 Applicant：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
パターン形成方法および半導体装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-362220 Applicant：株式会社日立製作所
ポジ型レジスト積層物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-188051 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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