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J-GLOBAL ID:200903009823213517

湿度センサ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992209206
Publication number (International publication number):1994058900
Application date: Aug. 05, 1992
Publication date: Mar. 04, 1994
Summary:
【要約】【構成】 シリコン基板にSiO2をスパッタし、絶縁膜を形成し、この絶縁膜上に、Cr、Auを蒸着し、櫛形電極を形成し、この櫛形電極が形成された絶縁膜上に感湿膜を形成し、湿度センサとする。【効果】 大型の安い基板が使え、量産性が良くなり、1個当りのコストが安くなる。大量生産に適したプロセスが使えるため、量産性がよく、応答性が速く、信頼性も高い。
Claim (excerpt):
導電性基板上に絶縁膜が形成され、この絶縁膜上に感湿膜が形成されることを特徴とする湿度センサ。
IPC (2):
G01N 27/12 ,  G01N 27/22

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