Pat
J-GLOBAL ID:200903009826686882

ガス注入と電気放電を用いた液体汚染物除去装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1995518692
Publication number (International publication number):1997507428
Application date: Jan. 11, 1995
Publication date: Jul. 29, 1997
Summary:
【要約】液体汚染物除去方法及び装置(10)は、汚染物除去モジュール(12)を通過する液体流内に配置された一連のパルス状電気アーク発生電極(22、30)を用いている。パルス発生機(50)により充分なエネルギーを電極(22、30)へ送り、それによって致死紫外線及び機械的衝撃波が、汚染物除去モジュール(12)内のアークにより発生する。装置の容量を変えるため、複数のモジュールを並列又は直列に操作することができる。電極(22、30)の一つを通ってガスを注入し、液体内のアークの発生を促進する。
Claim (excerpt):
a. 少なくとも一つの汚染物除去モジュール(module)、 b. 汚染物除去すべき液体を保持するための、前記モジュールに一体化された室手段(室部材:chamber means)、 c. アノード電極部材を有する少なくとも一つのアノード組立体及びカソード電極部材を有する少なくとも一つのカソード組立体で、前記アノード電極部材と前記カソード電極部材が前記室手段内に向かい合って配置され、それらの間にアーク放電領域を定めている、組立体、 b. 前記室手段を通って液体の流れをアーク放電領域近辺へ送るための液体流動手段(部材)、 c. アーク放電領域内の液体中にガスを注入するためのガス注入器手段(部材)、及び d. 前記アノード電極部材と前記カソード電極部材との間に一連の電気アークを発生させるためのパルス発生機、を具えた液体汚染物除去装置(システム)。
FI (2):
C02F 1/48 B ,  C02F 1/48 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開昭60-142855
  • 特開昭61-025698

Return to Previous Page