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J-GLOBAL ID：200903009852587809

微小開口形成方法

Inventor： 波多野 卓史 ,  佐藤 彰
Applicant, Patent owner： ミノルタ株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999189131
Publication number (International publication number)：2001013056
Application date： Jul. 02, 1999
Publication date： Jan. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】 良好な品質の微小開口を容易かつ大量に形成する。【解決手段】 透明層123に積層してフォトレジスト層を形成した後、照明光L2を固浸レンズ11側より照射すると、照明光L2は第1開口122aから透明層123を通過してフォトレジスト層に至り露光する。フォトレジスト層を現像すると、(a)のように露光されたフォトレジストが第1開口122aに対応する位置に微小レジスト領域MRとして残る。(b)のように透明層123および微小レジスト領域MRに積層するように第2不透明層124を成膜した後、微小レジスト領域MRをリフトオフ法によって除去して、(c)のように第2不透明層124に第2開口124aを形成する。このように第1開口122aをフォトマスクとして利用して第2開口124aを形成するので、精度良く微小開口MOを形成することができる。

Claim (excerpt)：

照明光を用いたフォトリソグラフィー技術によって微小開口を形成する微小開口形成方法であって、a)前記照明光の波長について不透明で第1開口を有する第1不透明層を形成する第1層形成工程と、b)前記第1不透明層に積層して前記照明光の波長について透明な透明層を形成する透明層形成工程と、c)前記透明層に積層して感光性材料より成る感光層を形成する感光層形成工程と、d)前記第1開口を透過した前記照明光により前記感光層を露光して、感光性材料の露光された微小領域を形成する微小領域形成工程と、e)前記透明層および前記微小領域に積層して、前記照明光の波長について不透明な第2不透明層を形成する第2層形成工程と、f)前記微小領域とともに前記第2不透明層のうち前記微小領域の上に存在する部分を除去することにより前記第2不透明層に第2開口を形成する開口形成工程と、を備えることを特徴とする微小開口形成方法。

IPC (3)：

G01N 13/14 ,  G01N 13/10 ,  G11B 7/22

FI (3)：

G01N 13/14 B ,  G01N 13/10 G ,  G11B 7/22

F-Term (8)：

5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119AA43 ,  5D119JA36 ,  5D119JA60 ,  5D119JB02 ,  5D119NA01 ,  5D119NA05