プラズマ処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994048288
Publication number (International publication number)：1995263188
Application date： Mar. 18, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【構成】プラズマ処理装置において、1ターンあるいは複数ターンのコイル3を処理室の石英あるいはアルミナセラミックス等の誘電体で構成された側壁部2に、コイル3の中心軸が処理室1内部に向くように複数配置し、コイル3に高周波電力を供給するよう構成した。【効果】処理室側壁部のプラズマの消失を抑制できるので、より均一なプラズマを生成することができるという効果がある。

Claim (excerpt)：

プラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、1ターンあるいは複数ターンのコイルを処理室の誘電体で構成された側壁部に、前記コイルの中心軸が前記処理室内部に向くように複数配置し、前記コイルに高周波電力を供給する高周波電源を接続したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/3065 , H01L 21/31 , H01Q 13/10

FI (3)：

H01L 21/302 B , H01L 21/302 C , H01L 21/31 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭64-057600
プラズマ処理方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-035518 Applicant：松下電器産業株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-092511 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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