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J-GLOBAL ID：200903009862881993

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 丹 史郎 ,  河辺 保雅
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995167529
Publication number (International publication number)：1997015851
Application date： Jul. 03, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【課題】 高い解像度、広いデフォーカスラチチュード、耐熱性を有するとともに、Deep UV硬化性に富んだポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 特定のフェノール化合物と、ホルムアルデヒド及び特定の芳香族アルデヒド化合物とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂と、1,2-キノンジアジド化合物とを含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト化合物。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるフェノール化合物と、ホルムアルデヒドおよび下記一般式(2)で示される芳香族アルデヒドを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂と、1,2-キノンジアジド化合物を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1〜R3:同一でも異なっても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基もしくはアリールカルボニル基、R4〜R8:同一でも異なっても良く、水素原子、水酸基、ホルミル基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、互いに環を形成してなるアルキレンジオキシ基、ただし、R4〜R8のうち少なくとも2つは互いに環を形成してなるアルキレンジオキシ基である。

IPC (4)：

G03F 7/022 ,  C08L 61/06 LNF ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/022 ,  C08L 61/06 LNF ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R