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J-GLOBAL ID：200903009869455540

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 水谷 一良
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003061749
Publication number (International publication number)：2004271844
Application date： Mar. 07, 2003
Publication date： Sep. 30, 2004
Summary：

【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、現像欠陥、塗布性及びラインエッジラフネスの点で改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A-1)特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性フッ素含有樹脂、(A-2)特定の基を有する酸の作用により分解してアルカリ現像液に可溶性となるフッ素含有樹脂、(B)酸の作用により分解してアルカリ現像液に可溶性の基を発生する基を有するフッ素含有低分子化合物、及び、(C)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A-1)下記一般式(I)の基を有するアルカリ可溶性フッ素含有樹脂、 (A-2)下記一般式(IIa)又は(IIb)で表される基の少なくとも一つを有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に可溶性となるフッ素含有樹脂、 (B)酸の作用により分解してアルカリ現像液に可溶性の基を発生する基を有するフッ素含有低分子化合物、及び、 (C)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (9)：

G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F216/04 ,  C08F216/14 ,  C08F220/00 ,  C08F232/04 ,  C08F232/08 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (9)：

G03F7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F216/04 ,  C08F216/14 ,  C08F220/00 ,  C08F232/04 ,  C08F232/08 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

F-Term (45)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA18 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07S ,  4J100AD07P ,  4J100AE18T ,  4J100AE19T ,  4J100AL08R ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BB18S ,  4J100BB18T ,  4J100BC08R ,  4J100BC08S ,  4J100BC08T ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC09T ,  4J100BC23R ,  4J100BC23T ,  4J100BC27R ,  4J100BC27S ,  4J100BC27T ,  4J100JA38