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J-GLOBAL ID：200903009869834680

紫外線照射装置

Inventor： 渕脇 務
Applicant, Patent owner： 東芝ライテツク株式会社
Agent (1)： 樺澤 襄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991007941
Publication number (International publication number)：1993023581
Application date： Jan. 25, 1991
Publication date： Feb. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】 効率良く空気を流通させる紫外線照射装置を提供する。【構成】 矩形状の筐体1内の一端側には温度制御室2が形成され、他端側には処理室3が形成され、これらの間には、隔壁4が形成されている。筐体1の一端面5には空気流入孔7が他端面8には排風孔9が形成されている。また、隔壁4には、連通孔11,12が形成されている。処理室3の上方には、低圧水銀ランプ15が収納され、下方には処理部17が設けられている。低圧水銀ランプ15には、熱交換用のヒートパイプ19が取付けられ、空気流入孔7と連通孔12との間に位置している。そして、ファン25により送風し、ヒートパイプ19を冷却するとともに、処理室3に空気を送り込み、効率よく酸素をオゾンに変換する。処理室3ではオゾンにより被処理物を洗浄する。

Claim (excerpt)：

紫外線を照射するランプと、このランプを冷却する冷却手段と、この冷却手段が収納された温度制御室と、この制御室と連通孔にて連通され前記ランプの紫外線により処理を行なう処理室と、前記制御手段の冷却手段を介して、前記処理室に気体を流入させる流入手段とを具備したことを特徴とする紫外線照射装置。

IPC (4)：

B01J 19/12 ,  A61L 9/20 ,  C01B 13/10 ,  F21V 29/00