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J-GLOBAL ID：200903009891712386
気液接触装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992024999
Publication number (International publication number)：1993220381
Application date： Feb. 12, 1992
Publication date： Aug. 31, 1993
Summary：
【要約】【目的】 高効率な気液接触と反応促進を実現する。【構成】 液体槽10中への気体13吹込み用ノズル装置11を有する気液接触装置において、吹込みノズル装置11をコアンダスパイラルフロー生成部として構成する。
Claim (excerpt)：
液体槽中への気体吹込みノズル装置を有する気液接触装置において、吹込みノズルをコアンダスパイラルフロー生成部として構成してなることを特徴とする気液接触装置。
IPC (2)：
B01J 10/00 104
, B01J 19/26
