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J-GLOBAL ID：200903009928428705

廃棄物のガス化処理方法

Inventor：
亀田 修

About 亀田 修

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小阪 良夫

About 小阪 良夫

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藤並 晶作

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Applicant, Patent owner：
宇部興産株式会社

About 宇部興産株式会社

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株式会社荏原製作所

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Agent (1)： 村上 友一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997212508
Publication number (International publication number)：1999033519
Application date： Jul. 23, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：
【要約】【課題】 二段ガス化処理に際して高温酸化炉の炉壁表面に灰層を確実に形成して炉壁の保護を行なうとともに、スラグ排出部(反応室、スロート部)での閉塞等を防止し、特に灰の含有量が廃棄物の種類によって異なることに起因して灰不足が生じないようにする。【解決手段】 流動層を用いたガス化炉10に有機性廃棄物を供給して一次ガス化させ、当該流動層ガス化炉にて得られたガス状物を高温酸化炉30へ導入して高温下にて二次ガス化することにより有用ガスを生成する。その終末速度が流動層ガス化炉のフリーボード部のガス流速以下となるように粒度調整した塩基性成分に富む灰、および炭酸カルシウム等の灰融点降下剤を一次ガスに同伴させることにより高温酸化炉に定量的に供給し、高温酸化炉反応室の炉壁表面に灰の固化コーティング層と溶融コーティング層を確実に形成させ、しかも灰溶融コーティング層は流動性が高く、排出が容易なものとする。
Claim (excerpt)：
流動層を用いたガス化炉に有機性廃棄物を供給して一次ガス化させ、当該流動層ガス化炉にて得られたガス状物を高温酸化炉へ導入して高温下にて二次ガス化することにより有用ガスを回収する廃棄物のガス化処理方法において、粒子の終末速度が前記流動層ガス化炉のフリーボード部におけるガス流速以下となるよう粒度調整した塩基性成分に富む灰、および炭酸カルシウム等の灰融点降下剤を添加し、一次ガスに同伴させて高温酸化炉の炉壁に灰コーティング層を円滑に形成せしめることを特徴とする廃棄物のガス化処理方法。
IPC (5)：
B09B 3/00 ,  B09B 3/00 ZAB ,  C10J 3/00 ZAB ,  F23G 5/02 ZAB ,  F23G 5/027
FI (5)：
B09B 3/00 302 E ,  C10J 3/00 ZAB H ,  F23G 5/02 ZAB D ,  F23G 5/027 B ,  B09B 3/00 ZAB
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (10)
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