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J-GLOBAL ID：200903009942207533
位相シフトマスク設計データ検証装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高田 守 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991272579
Publication number (International publication number)：1993107726
Application date： Oct. 21, 1991
Publication date： Apr. 30, 1993
Summary：
【要約】【目的】 半導体集積回路転写用の位相シフトマスクの設計データを、実際にマスクを製作することなく簡便に短時間低コストで検証することができる装置を実現する。【構成】 所望のパターンはビットマップ展開回路1で処理されメモリー回路2に格納される。位相シフトマスクの遮光パターンおよびシフターパターンはそれぞれビットマップ展開回路3,4で処理されメモリー回路5,6に格納される。両画像信号はメモリー回路7で合成されマスク光学画像形成回路8で光学画像に処理されメモリー回路9に格納される。両メモリー回路2および9の画像が比較演算回路10で検証される。
Claim (excerpt)：
所望の集積回路パターンの設計データをビットマップ展開する第1のビットマップ展開回路、位相シフトマスクのそれぞれ遮光パターンおよびシフターパターンの設計データをビットマップ展開するそれぞれ第2および第3のビットマップ展開回路、これら第2および第3のビットマップ展開回路からのビットマップ画像を合成して半導体基板に結像する光学画像を形成するマスク光学画像形成手段、および上記第1のビットマップ展開回路とマスク光学画像形成手段とからの情報を比較する比較演算回路を備えた位相シフトマスク設計データ検証装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
