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J-GLOBAL ID：200903009981727048

新規ジベンゾイルメタン誘導体とその製造方法

Inventor： 赤石 良一 ,  森田 泰弘 ,  奥田 尚宏 ,  内山 雄二朗
Applicant, Patent owner： 大阪有機化学工業株式会社
Agent (1)： 細田 芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995350176
Publication number (International publication number)：1997169699
Application date： Dec. 21, 1995
Publication date： Jun. 30, 1997
Summary：

【要約】【解決手段】4-tert-ブチル-4’-(2-メタクリロイルオキシエトキシ)ジベンゾイルメタンおよび4-tert-ブチル-4’-(2-ヒドロキシエトキシ)ジベンゾイルメタン並びにこれらの製造方法。【効果】本発明により、UV-A領域に吸収能を有する新規化合物である4-tert-ブチル-4’-(2-メタクリロイルオキシエトキシ)ジベンゾイルメタンを提供することができる。また、本発明の製造方法によれば、4-tert-ブチル-4’-(2-ヒドロキシエトキシ)ジベンゾイルメタンを用いることにより側鎖のヒドロキシル基を重合活性のあるメタクリロイルオキシ基に容易に変換することができる。

Claim (excerpt)：

4-tert-ブチル-4’-(2-メタクリロイルオキシエトキシ)ジベンゾイルメタン。

IPC (9)：

C07C 69/54 ,  C07C 45/72 ,  C07C 49/84 ,  C07C 67/08 ,  C07C 67/14 ,  C09K 3/00 104 ,  C07B 61/00 300 ,  C09D 5/32 PSG ,  C09D 11/00 PSW

FI (9)：

C07C 69/54 Z ,  C07C 45/72 ,  C07C 49/84 E ,  C07C 67/08 ,  C07C 67/14 ,  C09K 3/00 104 Z ,  C07B 61/00 300 ,  C09D 5/32 PSG ,  C09D 11/00 PSW