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J-GLOBAL ID：200903010011242147

有機廃棄物の処理方法及び装置

Inventor： 菊池 英二 ,  国谷 治郎
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998091222
Publication number (International publication number)：1999285677
Application date： Apr. 03, 1998
Publication date： Oct. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、亜臨界及び超臨界状態の水によって有機物を分解する際の反応容器材料,配管材料などの応力腐食割れを防止するとともに難分解性の有機廃棄物の処理方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、超臨界水又は亜臨界水で有機廃棄物を完全に加水分解する方法及びその装置において、前記水の溶存酸素量を200ppb 以下とすること、不活性ガスを注入、水素,ヒドラジン等の還元剤を注入するとともに、反応器の中に水蒸気改質触媒を設けて有機廃棄物を処理する方法及びその装置にある。

Claim (excerpt)：

超臨界水又は亜臨界水にて有機物を分解する方法において、前記水の溶存酸素濃度が200ppb 以下及び水蒸気改質触媒存在のもとで前記有機物を分解することを特徴とする有機廃棄物の処理方法。

IPC (7)：

B09B 3/00 ,  B09B 3/00 ZAB ,  C02F 1/74 101 ,  C02F 11/06 ,  C23F 11/18 ,  C23F 13/00 ,  C23F 15/00

FI (7)：

B09B 3/00 303 H ,  C02F 1/74 101 ,  C02F 11/06 A ,  C23F 11/18 ,  C23F 13/00 A ,  C23F 15/00 ,  B09B 3/00 ZAB