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J-GLOBAL ID：200903010018676231
多層レジスト構造及びその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 敏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991253784
Publication number (International publication number)：1993094022
Application date： Oct. 01, 1991
Publication date： Apr. 16, 1993
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、3層レジスト構造において、上層レジスト層に対しての耐性及び濡れ性を良好にさせることができる多層レジスト構造及びその製造方法を提供することを目的とする。【構成】 下地基板11上に下層レジスト層12を形成し、次にこの下層レジスト層12上に中間層としてアルコキシシランとアクリル樹脂から成る共重合体13を形成し、さらにこの共重合体13上に上層レジスト層14を形成するようにした。
Claim (excerpt)：
下地基板上に形成される第1のレジスト層と、前記第1のレジスト層上に形成されるアルコキシシランとアクリル樹脂から成る共重合体と、前記共重合体上に形成される第2のレジスト層とを含むことを特徴とする多層レジスト構造。
IPC (3)：
G03F 7/26 511
, G03F 7/095
, H01L 21/027
