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J-GLOBAL ID:200903010037213790
光記録媒体及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994151482
Publication number (International publication number):1995334863
Application date: Jun. 09, 1994
Publication date: Dec. 22, 1995
Summary:
【要約】【構成】 光吸収層がフタロシアニン環のα位にチオフェニル系基を有する特定の金属フタロシアニン系化合物(1)と、置換又は環状化されていてもよいアミノ化合物、イミノ化合物及びアゾ化合物から選ばれた窒素含有化合物(2)との混合物を主成分としてなる光記録媒体、並びに基体上に光吸収層を塗布成膜手段により形成させ、且つその上に光反射層を真空成膜手段により形成させるその製造方法。【効果】 本記録媒体はフタロシアニン系化合物の分子会合が抑制され、レーザー波長域(760〜800nm)において適切な複素屈折率をもつという優れた光学特性と耐光性を有する。また、本製造方法によると、本発明の光記録媒体を容易に安定して得ることができる。
Claim (excerpt):
基板上に少なくとも光吸収層を設けてなる光記録媒体において、該光吸収層が下記一般式(I)で表わされる金属フタロシアニン系化合物(1)と、置換又は環状化されていてもよいアミノ化合物、イミノ化合物及びアゾ化合物から選ばれた窒素含有化合物(2)とを、主成分とするものであることを特徴とする光記録媒体。【化1】【化2】R1:C数1〜4のアルキル基又はC数1〜4のアルコキシ基、R2〜R5:C数1〜4のアルキル基、C数1〜4のアルコキシ基、ハロゲン原子又は水素原子。)
IPC (3):
G11B 7/24 516
, B41M 5/26
, G11B 7/26 531
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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情報を貯蔵するための方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-047585
Applicant:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
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特開昭61-154888
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光記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-058551
Applicant:日立化成工業株式会社
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特開平2-179790
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Cited by examiner (6)
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