Pat
J-GLOBAL ID：200903010079576442

基板処理装置

Inventor：
濱田 哲也

About 濱田 哲也


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (3)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004353045
Publication number (International publication number)：2006165187
Application date： Dec. 06, 2004
Publication date： Jun. 22, 2006
Summary：
【課題】パターンの線幅均一性をより向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】インデクサセルから払い出された基板W(第1の基板W)が露光装置でのレチクル変更前の最終基板である場合には、その次に処理される基板W(第2の基板W)のインデクサセルからの払い出しを一旦停止する。そして、レチクル交換時間に相当する時間の経過を待ってから基板払い出しを再開し、インデクサセルから第2の基板Wを払い出す。露光装置側では、第1の基板Wの露光処理が終了し、レチクル交換が完了するタイミングでレジスト塗布処理済みの第2の基板Wが搬入されることとなるため、処理効率を低下させることなく、基板Wへのレジスト塗布処理が完了してから露光処理が行われるまでの時間を一定にすることができる。その結果、基板Wの処理履歴を均一にすることができ、パターンの線幅均一性をより向上させることができる。【選択図】図7
Claim (excerpt)：
基板にレジストを塗布することによってレジスト膜が形成された基板を露光装置に搬入するとともに、該露光装置から受け取った露光後の基板に現像処理を行う基板処理装置であって、 基板にレジスト塗布処理を行う塗布処理部と、 露光後の基板に現像処理を行う現像処理部と、 前記レジスト塗布処理が行われてレジスト膜が形成された基板を前記塗布処理部から受け取って露光装置に渡すとともに、露光済みの基板を前記露光装置から受け取って前記現像処理部に渡すインターフェイス部と、 装置外から受け取った未処理基板を前記塗布処理部に払い出すとともに、前記現像処理部から受け取った処理済み基板を装置外に搬出する搬入搬出部と、 前記塗布処理部、前記現像処理部、前記インターフェイス部および前記搬入搬出部の間で基板の搬送を行う搬送手段と、 前記塗布処理部での基板へのレジスト塗布処理が完了してから当該基板に前記露光装置にて露光処理が行われるまでの時間が一定となるように前記搬送手段を制御する制御手段と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/677
FI (2)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/68 A
F-Term (23)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA43 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA23 ,  5F031MA27 ,  5F031MA30 ,  5F031PA03 ,  5F031PA30 ,  5F046AA17 ,  5F046CD05 ,  5F046JA22
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (11)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM