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J-GLOBAL ID：200903010100566312

気体処理システム、及び、これを用いた空調設備

Inventor： 村田 耕一
Applicant, Patent owner： 株式会社大氣社
Agent (1)： 北村 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996026426
Publication number (International publication number)：1997220432
Application date： Feb. 14, 1996
Publication date： Aug. 26, 1997
Summary：

【要約】【課題】 運転経費の軽減、メンテナンス・管理の容易化を図りながら、処理対象気体中のガス状汚染化学成分を効率良く除去する。【解決手段】 処理対象気体A1,A2と洗浄液W1,W2とを接触させて、洗浄液中への吸収により処理対象気体中のガス状汚染化学成分xを除去する浄化装置10a,10bを設けた気体処理システムにおいて、大気Oと水Wとを接触させて、大気中の化学成分を水に含有させる水調整装置23を設け、この水調整装置23で大気中の化学成分を含有させた調整水Wを、前記の洗浄液W1,W2として浄化装置10a,10bに供給する構成とする。また、空調対象室1,2に供給する外気Oを水Wと接触させて調整する外気調整装置23を水調整装置に兼用化して、この外気調整装置23で外気Oと接触させた水Wを、前記の調整水として浄化装置10a,10bに供給する構成とする。

Claim (excerpt)：

処理対象気体(A1),(A2)と洗浄液(W1),(W2)とを接触させて、洗浄液中への吸収により処理対象気体中のガス状汚染化学成分(x)を除去する浄化装置(10a),(10b)を設けた気体処理システムであって、大気(O)と水(W)とを接触させて、大気中の化学成分を水に含有させる水調整装置(23)を設け、この水調整装置(23)で大気中の化学成分を含有させた調整水(W)を、前記洗浄液(W1),(W2)として前記浄化装置(10a),(10b)に供給する構成としてある気体処理システム。

IPC (6)：

B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/77 ZAB ,  B01D 53/58 ,  B01D 53/60 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/68

FI (5)：

B01D 53/34 ZAB E ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 131 ,  B01D 53/34 133 ,  B01D 53/34 134 A