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J-GLOBAL ID：200903010107047299

放射線感応組成物およびそれを用いるパターン形成方 法

Inventor： 片岡 睦雄 ,  笹山 則生
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991288959
Publication number (International publication number)：1993127375
Application date： Nov. 05, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：

【要約】【構成】 樹脂成分として低分子量成分を除いたノボラックと多価フェノール化合物を含み、感光剤として多価フェノール化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸による低エステル化物を含むレジストを2-ジエチルアミノエタノールを含む現像液で現像する。【効果】 高解像度、高感度でドライエッチング耐性に優れたポジ型感放射線レジストであり、特にポジ型電子線レジストとして有効である。

Claim (excerpt)：

樹脂成分として、m-クレゾールとp-クレゾールのモル比10/90〜50/50の混合物を原料としダイマの含有量が10重量%以下のノボラックを含み、添加剤としてベンゼン環2〜6個、フェノール性水酸基2〜12個を含むポリフェノール化合物を含み、感光剤としてベンゼン環2〜4個、フェノール性水酸基3〜6個を含むポリフェノール化合物のフェノール性水酸基が平均して20〜60%、1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸によりエステル化された化合物を含むことを特徴とするポジ型放射線感応組成物。

IPC (4)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027