Pat
J-GLOBAL ID：200903010112224336
処理システム
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
佐々木 聖孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993307468
Publication number (International publication number)：1995142459
Application date： Nov. 12, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：
【要約】 (修正有)[目的]枚葉式処理部とバッチ式処理部との間で一貫した連続処理を可能にするとともに、両処理部の間での被処理基板の移送ないし保管を安全に行う。[構成]インタフェース部16の室内において、ウエハ受渡し台172、ボート受渡し台174およびウエハ搬送アーム176と天井178との間には第1(左側)上部空間180Aと第2(右側)上部空間180Bとが設けられている。天井178の裏側(上側)には、第1上部空間180Aおよび第2上部空間180Bの真上の位置に第1および第2エア供給室184,186がそれぞれ設けられている。第1エア供給室184にはファンフィルタ190が設けられ、第2エア供給室186には高性能の除湿機能付フィルタたとえばULPAフィルタ192が設けられている。第1上部空間180Aと対向する床部には、排気用のファン194が配設されている。
Claim (excerpt)：
1枚ずつ被処理基板に第1の処理を施す枚葉式処理部と、前記枚葉式処理部で前記第1の処理の済んだ前記被処理基板をボートに多数枚収容した状態で各被処理基板に第2の処理を施すバッチ式処理部と、前記枚葉式処理部と前記バッチ式処理部との間で前記被処理基板のやりとりを行うために設けられ、陽圧状態の下で前記被処理基板の移送または保管を行うインタフェース部と、を有する処理システム。
IPC (3)：
H01L 21/31
, H01L 21/316
, H01L 21/68
