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J-GLOBAL ID：200903010113168740
レジスト組成物及びそれを用いるパターン形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
青木 朗 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992063341
Publication number (International publication number)：1993265210
Application date： Mar. 19, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：
【要約】【目的】 酸素プラズマ耐性が高く、高感度で二層レジストとして機能するレジスト組成物及びそれを用いて高生産性でレジストパターンを形成する方法を提供する。【構成】 炭素数1〜6のアルコキシシリル基を有する芳香族化合物からなる架橋剤、酸発生剤、水酸基を有するポリマー及び溶媒から成るレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
炭素数1〜6のアルコキシシリル基を有する芳香族化合物からなる架橋剤、酸発生剤、水酸基を有するポリマー及び溶媒から成るレジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/075 501
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
Cited by examiner (6)
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