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J-GLOBAL ID：200903010203880309

薄膜トランジスタマトリクス装置及びその製造方法

Inventor： 梁井 健一 ,  沖 賢一 ,  和田 保 ,  大形 公士 ,  瀧沢 裕 ,  岡部 正博
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993221645
Publication number (International publication number)：1994194688
Application date： Sep. 07, 1993
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 薄膜トランジスタにより表示制御を行うアクティブマトリクス型液晶表示装置の薄膜トランジスタマトリクス装置及びその製造方法に関し、ドレインバスラインの抵抗値が低く、簡単に製造することができる薄膜トランジスタマトリクス装置及びその製造方法を提供する。【構成】 絶縁基板40上に、マトリクス状に配置された複数の画素電極4と、複数の薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタのドレイン電極を共通接続するドレインバスライン21と、薄膜トランジスタのゲート電極を共通接続するゲートバスライン31とが形成され、ゲートバスライン31との交差部におけるドレインバスライン21上の第1の金属膜10a、10bが、ドレインバスライン21上に電着された第2の金属膜11により交差部間において連結されている。

Claim (excerpt)：

絶縁基板と、前記絶縁基板上にマトリクス状に配置された複数の画素電極と、前記各画素電極にソース電極が接続された複数の薄膜トランジスタと、前記画素電極間に第1の方向に配線され、前記薄膜トランジスタのドレイン電極を共通接続するドレインバスラインと、前記画素電極間に前記第1の方向と直交する第2の方向に前記ドレインバスラインと交差して配線され、前記薄膜トランジスタのゲート電極を共通接続するゲートバスラインとを有する薄膜トランジスタマトリクス装置において、前記ゲートバスラインと交差する交差部において前記ドレインバスライン上に形成された第1の金属膜と、前記ゲートバスラインに交差する交差部間において前記ドレインバスライン上に形成され、前記第1の金属膜を連結する第2の金属膜とを有することを特徴とする薄膜トランジスタマトリクス装置。

IPC (4)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/90 ,  H01L 29/784

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-002523
  
• 特開昭61-179486
  
• 特開平3-049237
  
• 特開平2-044318