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J-GLOBAL ID：200903010207748456

高緻密な多層薄膜およびその成膜方法

Inventor： 神谷 攻
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998358433
Publication number (International publication number)：2000171607
Application date： Dec. 02, 1998
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【課題】 緻密度を改善し湿度や温度等の外部環境に安定した高緻密な反射防止膜や色分解フィルター等の多層薄膜およびその成膜方法を提供する。【解決手段】 基板側から中間屈折率層1、高屈折率合成層2および低屈折率層3からなる多層薄膜4により構成される反射防止膜において、高屈折率層の屈折率をおおよそ決定する主層aとしてTiO2 膜を柱状構造が発現する前段階まで成膜して略10nm以下の膜厚とし、その上に構造調整層bとしてのSiO2 膜を主層aの1/10以下の薄い膜厚で成膜して形成する単位層xを順次積層して所望膜厚の合成層yを形成して、この合成層yをもって高屈折率合成層2とする。これにより、薄膜の柱状構造の発現を抑えて緻密度を改善することができ、全体としての光学スペクトル特性を損なうことなく、環境安定性、生産性に優れた光学多層薄膜を得ることができる。

Claim (excerpt)：

基板上に屈折率の異なった成膜材料の薄膜を積層した多層薄膜において、該多層薄膜のうち少なくとも任意の1層を、少なくとも2種類の成膜材料でそれぞれ略10nm以下の膜厚の主層と構造調整層の交互層で実質的に単層膜の如く機能する合成層としたことを特徴とする多層薄膜。

IPC (6)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/34 ,  G02B 5/28

FI (6)：

G02B 1/10 A ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A ,  C23C 14/06 P ,  C23C 14/34 N ,  G02B 5/28

F-Term (48)：

2H048GA04 ,  2H048GA14 ,  2H048GA35 ,  2H048GA46 ,  2H048GA57 ,  2H048GA60 ,  2K009AA06 ,  2K009AA07 ,  2K009AA09 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009DD04 ,  2K009EE00 ,  4F100AA17B ,  4F100AA17C ,  4F100AG00 ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100AR00D ,  4F100AR00E ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10E ,  4F100BA13 ,  4F100EH66B ,  4F100GB90 ,  4F100JA20B ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JN06B ,  4F100JN06C ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100JN18D ,  4F100JN18E ,  4F100YY00B ,  4K029BA41 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD09 ,  4K029CA05 ,  4K029EA01 ,  4K029EA09