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J-GLOBAL ID：200903010222389500
原子線ホログラフィによるパターン形成方法及び装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 忠 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998102758
Publication number (International publication number)：1999296058
Application date： Apr. 14, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】原子線ホログラムの技術を用いることにより、所望の元素(原子)からなる超微細なパターンを基板上に直接形成する。【解決手段】透過型のホログラム1に、物質波としてコヒーレントな原子線を照射し、ホログラム1に含まれるパターン情報によって原子線を変調する。ホログラム1を通過し回折した原子線を反射面2に導き、この反射面2で量子コヒーレント反射させ、反射後の原子線を基板3上に入射させる。ホログラム1としては、計算機合成によるバイナリ(2値)ホログラムが好適に使用され、電位制御型のホログラムを用いてもよい。
Claim (excerpt)：
基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、透過型のホログラムに対し、可干渉性を有する原子線を入射させて前記原子線を変調させ、変調された原子線を反射面に入射して前記反射面において位相情報を保ったまま反射させ、前記反射面から反射された原子線を前記基板上に導く、原子線ホログラフィによるパターン形成方法。
IPC (2)：
FI (2)：
G03H 5/00
, H01L 21/30 528
