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J-GLOBAL ID：200903010227318156

洗浄処理装置

Inventor： 西垣 寿 ,  猪野 隆生
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995136769
Publication number (International publication number)：1996323303
Application date： Jun. 02, 1995
Publication date： Dec. 10, 1996
Summary：

【要約】【目的】 この発明は被処理物を洗浄後にスピン乾燥させるとき、洗浄時の処理液が再付着するのを防止できる洗浄処理装置を提供することにある。【構成】 被処理物22の上下面を洗浄処理する洗浄装置において、処理容器1と、上記被処理物を保持するチャックピン19を有し上記処理容器に回転自在に設けられた回転チャック11と、この回転チャックを回転駆動するモ-タ16と、上記被処理物の上面側と下面側に設けられ上記被処理物の上面と下面に処理液を供給する上部ノズル37おおよびノズル孔32aと、上記被処理物の下面側に上記回転チャックと一体的に回転するよう設けられその回転によって径方向外方へ向かう気流を発生する気流発生板35とを具備したことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

被処理物の上下面を洗浄処理する洗浄装置において、処理容器と、上記被処理物を保持するチャック部を有し上記処理容器に回転自在に設けられた回転チャックと、この回転チャックを回転駆動する駆動手段と、上記被処理物の下面側に設けられ上記被処理物の上面と下面にそれぞれ処理液を供給する噴射手段と、この噴射手段の下面側に上記回転チャックと一体的に回転するよう設けられその回転によって径方向外方へ向かう気流を発生する気流発生手段とを具備したことを特徴とする洗浄処理装置。

IPC (3)：

B08B 3/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351

FI (3)：

B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 351 S