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J-GLOBAL ID:200903010244619933

フォーカス評価用レチクルおよびフォーカス評価方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 船橋 國則
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996078486
Publication number (International publication number):1997270379
Application date: Apr. 01, 1996
Publication date: Oct. 14, 1997
Summary:
【要約】【課題】 縮小投影露光装置のフォーカス位置評価を短時間で行えるようにしたフォーカス評価用レチクル、及びフォーカス評価方法の提供が望まれている。【解決手段】 縮小投影露光装置のフォーカス位置評価のために用いられる評価用レチクル20である。評価用レチクル20上には評価用パターン22が形成されている。評価用パターン22は、縮小投影露光装置の解像限界幅より細い幅のパターンと、解像限界幅より太い複数種の幅のパターン群とを有している。パターンの各間隔は、縮小投影露光装置の解像限界を越える幅である。
Claim (excerpt):
縮小投影露光装置のフォーカス位置評価のために用いられる評価用レチクルであって、該評価用レチクル上に評価用パターンを形成してなり、該評価用パターンが、前記縮小投影露光装置の解像限界幅より細い幅のパターンと、解像限界幅より太い複数種の幅のパターン群とを有し、前記パターンの各間隔が、前記縮小投影露光装置の解像限界を越える幅であることを特徴とするフォーカス評価用レチクル。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (3):
H01L 21/30 515 F ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H

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