Pat

J-GLOBAL ID：200903010248189143

パターン形成用積層体

Inventor： 小嶋 大輔 ,  小松 隆伸 ,  今井 玄児
Applicant, Patent owner： 関西ペイント株式会社 ,  富士通株式会社
Agent (1)： 小田島 平吉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000234019
Publication number (International publication number)：2001201870
Application date： Aug. 02, 2000
Publication date： Jul. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 シャープなパターンを与えるパターン形成用積層体を提供すること。【解決手段】 本発明は、基材表面に、ネガ型もしくはポジ型紫外線感光性樹脂被膜層(A)、紫外線を透過するシート層(B)、及び紫外線を遮蔽する感エネルギー線被膜層(C)を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層体を提供するものである。

Claim (excerpt)：

基材表面に、ネガ型もしくはポジ型紫外線感光性樹脂被膜層(A)、紫外線を透過するシート層(B)、及び紫外線を遮蔽する感エネルギー線被膜層(C)を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層体。

IPC (3)：

G03F 7/26 511 ,  G03F 7/095 ,  G03F 7/40 521

FI (3)：

G03F 7/26 511 ,  G03F 7/095 ,  G03F 7/40 521

F-Term (37)：

2H025AA20 ,  2H025AB15 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC73 ,  2H025BC83 ,  2H025BC86 ,  2H025BE00 ,  2H025BE02 ,  2H025CA18 ,  2H025CA39 ,  2H025CB41 ,  2H025CC02 ,  2H025CC08 ,  2H025CC11 ,  2H025DA01 ,  2H025DA13 ,  2H025DA14 ,  2H025DA33 ,  2H025DA40 ,  2H025FA06 ,  2H025FA17 ,  2H025FA30 ,  2H025FA39 ,  2H096AA26 ,  2H096AA30 ,  2H096BA06 ,  2H096BA10 ,  2H096CA20 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H096HA03 ,  2H096HA30