ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002103440
Publication number (International publication number)：2002372785
Application date： Apr. 05, 2002
Publication date： Dec. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】a)ラクトン残基を有する構造単位と、芳香環を有する構造単位を含む重合体と、b)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物であって、a)が酸の作用によりアルカリ可溶性基を生成してアルカリ現像液に可溶化する重合体であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物、およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。

Claim (excerpt)：

a)ラクトン残基を有する構造単位と、芳香環を有する構造単位を含む重合体と、b)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物であって、a)が酸の作用によりアルカリ可溶性基を生成してアルカリ現像液に可溶化する重合体であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/10 , C08F 20/42 , C08F212/04 , C08F214/00 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/10 , C08F 20/42 , C08F212/04 , C08F214/00 , H01L 21/30 502 R

F-Term (52)：

2H025AB08 , 2H025AB16 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025EA10 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AB07Q , 4J100AC07Q , 4J100AC11Q , 4J100AC21Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL16P , 4J100AL16Q , 4J100AL26P , 4J100AL26Q , 4J100AL74Q , 4J100AL91Q , 4J100AM03P , 4J100AM03Q , 4J100BA02Q , 4J100BA03Q , 4J100BA05Q , 4J100BA06Q , 4J100BA10Q , 4J100BA11P , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA16Q , 4J100BA20Q , 4J100BA22Q , 4J100BA41Q , 4J100BA53Q , 4J100BA55Q , 4J100BA76Q , 4J100BB03Q , 4J100BC02Q , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC23Q , 4J100BC43Q , 4J100BC49Q , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100BC69Q , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-127296 Applicant：富士写真フイルム株式会社
分解性化合物および分解性樹脂並びにこれらを用いた感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-327775 Applicant：三菱電機株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-312722 Applicant：富士通株式会社

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