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J-GLOBAL ID：200903010265769579

垂直磁化膜及び磁気記録媒体

Inventor： 橋本 進 ,  柚須 圭一郎 ,  猪俣 浩一郎
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992045868
Publication number (International publication number)：1993067322
Application date： Mar. 04, 1992
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【構成】 イオンビームスパッタリング法などの薄膜形成技術を用いて、10オングストローム程度の磁性層Coと貴金属層Ptを、膜厚比tCo/tPtを0.6以上で、5層以内、積層膜の膜厚を50オングストローム未満とすることで良好な垂直磁化膜が得られる。【効果】 従来この様な人工格子膜ではCoの膜厚が厚いと垂直磁化膜が得られなかったが、本発明によればtCo/tPt≧0.6というCoの膜厚が厚い領域でも垂直磁化膜を得ることができる。

Claim (excerpt)：

磁性層と貴金属層とが積層された状態を(M/N)nMは磁性体,Nは貴金属,nは積層数で表したとき、1≦n≦5かつ(M/N)n の膜厚が50オングストローム未満であることを特徴とする垂直磁化膜。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平2-235215
  
• 特開平3-235237
  
• 特開平3-252942
  
• 特開平4-274039
  
• 特開平4-167406