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J-GLOBAL ID：200903010269403455
パターン形成されたリターダの製造方法とパターン形成されたリターダ、および照明用光源
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998182987
Publication number (International publication number)：1999084385
Application date： Jun. 29, 1998
Publication date： Mar. 26, 1999
Summary：
【要約】【課題】 標準的な液晶装置の製造に適合する様式で、材料とホトリソグラフ技術とを用いるパターン形成されたリターダを製造する方法を提供する。【解決手段】 パターン形成されたリターダは、配向層を設ける工程と、該配向層を第1のラビング方向にラビングする工程と、該配向層の少なくとも1つの第1の領域をマスクを用いてマスクして、該配向層の少なくとも1つの第2の領域を露出させる工程と、該第1のラビング方向とは異なる第2のラビング方向に、該マスクを通して該少なくとも1つの第2の領域をラビングする工程と、該マスクを除去する工程と、光学軸が該配向層によって配向される、複屈折材料で形成される層を、該配向層上に設ける工程と、該複屈折材料で形成される層の該光学軸を固定する工程とを包含する方法によって、パターン形成されたリターダの製造方法によって製造される。
Claim (excerpt)：
配向層を設ける工程と、該配向層を第1のラビング方向にラビングする工程と、該配向層の少なくとも1つの第1の領域をマスクを用いてマスクして、該配向層の少なくとも1つの第2の領域を露出させる工程と、該第1のラビング方向とは異なる第2のラビング方向に、該マスクを通して該少なくとも1つの第2の領域をラビングする工程と、該マスクを除去する工程と、光学軸が該配向層によって配向される、複屈折材料で形成される層を、該配向層上に設ける工程と、該複屈折材料で形成される層の該光学軸を固定する工程とを包含する、パターン形成されたリターダの製造方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
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