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J-GLOBAL ID：200903010278468810

光学コヒーレンス断層撮影法を使用して試料中の少なくとも1つの位置を決定するための方法、システムおよびソフトウェア装置

Inventor：
デブウル,ヨハネス フィッツジェラルド

About デブウル,ヨハネス フィッツジェラルド

, 
パーク,ボリス ハイル

About パーク,ボリス ハイル


Applicant, Patent owner：
ザ ジェネラル ホスピタル コーポレイション

About ザ ジェネラル ホスピタル コーポレイション


Agent (5)： 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  島田 哲郎 ,  倉地 保幸 ,  下道 晶久
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2007525075
Publication number (International publication number)：2008509403
Application date： Aug. 08, 2005
Publication date： Mar. 27, 2008
Summary：
システム、処理、およびソフトウェア装置が、試料の少なくとも一部分の少なくとも1つの位置を決定するために提供される。特に、試料の一部分に関連する情報が得られる。そのような一部分は、試料から受ける第1電磁放射と、基準から受ける第2電磁放射を含む干渉信号に関連付けてもよい。また、試料の一部分の深度情報および/または側方情報が得られる。少なくとも1つの重み関数を深度情報および/または側方情報に適用して、結果情報を生成することができる。更に、試料の一部分の表面位置、側方位置および/または深度位置を、結果情報に基づいて突き止めることができる。
Claim (excerpt)：
試料の少なくとも一部分の少なくとも1つの位置を決定するシステムであって、 前記試料から受ける第1電磁放射と基準から受ける第2電磁放射を含む干渉信号に関連している前記試料の少なくとも一部分に関連している情報を得ることができる処理装置を備え、前記処理装置は更に、 I. 前記試料の前記少なくとも一部分の深度情報または側方情報の少なくとも1つを取得し、 II. 少なくとも1つの重み関数を、前記深度情報または前記側方情報の前記少なくとも1つに適用して、結果情報を生成し、 III . 前記結果情報に基づいて、前記試料の前記少なくとも一部分の表面位置、側方位置、または深度位置の少なくとも1つである特別情報を突き止めるシステム。
IPC (2)：
G01N 21/17 ,  A61B 3/12
FI (2)：
G01N21/17 620 ,  A61B3/12 Z
F-Term (11)：
2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (9)
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