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J-GLOBAL ID：200903010292359765

露光装置および露光方法

Inventor： 中山 義則 ,  河村 喜雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994075624
Publication number (International publication number)：1995283119
Application date： Apr. 14, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 パタ-ン間の位置合わせの不用な露光と投影マスクパタ-ンの変更の容易な露光を目的とする。【構成】 光源から発生される光の偏光を制御する偏光フィルタと投影マスクから透過した偏光成分を選択する偏光フィルタおよび異なる旋光特性を有したパタ-ンを内在した投影マスクから構成される。【効果】 一枚のマスク内に複数のパタ-ンを内在し、これらのパタ-ン間の正確な位置決めが確実にでき、また投影マスクのパタ-ン形成も容易にできる。

Claim (excerpt)：

光源および投影マスクおよび投影レンズからなり投影マスク上のパタ-ンをウェ-ハ上に露光する露光装置において、光源と投影マスクの間に光源から発せられる光の偏光方向を制御する偏光フィルタと投影マスクとウェ-ハの間に投影マスクからの透過光の偏光方向を制御する偏光フィルタを設けたことを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527