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J-GLOBAL ID：200903010299026400

熱処理装置

Inventor： 北村 寛
Applicant, Patent owner： 光洋リンドバーグ株式会社
Agent (1)： 岸本 瑛之助 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993017719
Publication number (International publication number)：1994226484
Application date： Feb. 04, 1993
Publication date： Aug. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 脱泡処理後に加熱処理を連続して行うことができる熱処理装置を提供する。【構成】 被処理物P は、入口側ウオーキングビーム3 により保温槽1 の入口7から真空容器11まで搬送される。真空容器11は、遠赤ヒータ12を有する真空容器上半部9 および上下動自在でかつ被処理物受台14を備えた真空容器下半部10よりなる。真空容器11内が加熱下で真空とされることにより被処理物P 中の気泡が除去される。脱泡処理後の被処理物P は、出口側ウオーキングビーム4 により真空容器11から保温槽1 の出口8 まで搬送され、この間に、出口側ウオーキングビーム4 上方に配置された出口側加熱源6 により、加熱処理される。

Claim (excerpt)：

保温槽(1) と、保温槽(1) 内に配置される真空容器(11)を有し被処理物(P) が納められた真空容器(11)を真空とすることにより被処理物(P)の気泡を除去する脱泡装置(2) と、保温槽(1) の入口(7) から真空容器(11)まで被処理物(P) を搬送する入口側搬送装置(3)(31) と、脱泡処理後の被処理物(P)を真空容器(11)から保温槽(1) の出口(8) まで搬送する出口側搬送装置(4)(34)と、保温槽(1) 内の出口側搬送装置(4) 上方に配置された出口側加熱源(6) とを備え、真空容器(11)が、保温槽(1) 内の搬送路上方に固定されかつ真空容器内加熱源(12)を有する真空容器上半部(9) および真空容器上半部(9) の下方に上下動自在に設けられかつ被処理物受台(14)を備えた真空容器下半部(10)よりなる熱処理装置。

IPC (6)：

B23K 31/02 310 ,  B23K 3/00 310 ,  B29C 35/02 ,  H01L 21/56 ,  H05K 3/34 ,  B29L 31:34