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J-GLOBAL ID：200903010313122710

反応室用のガス分配プレート

Inventor： クラウス ロイトナー ,  ベルンハルト ポッシェンリーダー ,  カール パウル ムラー
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト ,  インターナショナル ビジネス マシーンズ コーポレーション
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997324865
Publication number (International publication number)：1998158844
Application date： Nov. 26, 1997
Publication date： Jun. 16, 1998
Summary：

【要約】【課題】 基板の表面にデポジットされるフィルムの不均一性を最小にし、かつフォーカスリングを使用せず、かつガス分配プレートを交換する必要もない改善された装置、および化学蒸着およびドライエッチング方法を提供することである。【解決手段】 質的に扁平な要素が、当該要素を貫通する複数の開口部を有し、少なくとも1つの隔壁が前記扁平要素の表面に配置されており、前記少なくとも1つの隔壁は、前記開口部を少なくとも2つのガス分配領域に分離し、前記ガス分配領域は、前記反応室に取り付けられた基板に反応ガスを分配するように動作するようにする。

Claim (excerpt)：

反応室に取り付けられた基板に均一な反応を生じさせるためのガス分配プレートにおいて、実質的に扁平な要素が、当該要素を貫通する複数の開口部を有し、少なくとも1つの隔壁が前記扁平要素の表面に配置されており、前記少なくとも1つの隔壁は、前記開口部を少なくとも2つのガス分配領域に分離し、前記ガス分配領域は、前記反応室に取り付けられた基板に反応ガスを分配するように動作する、ことを特徴とするガス分配プレート。

IPC (4)：

C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (4)：

C23C 16/44 D ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B