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J-GLOBAL ID：200903010336794898
シリカガラス位相グレーティングマスクを用いるブラッググレーティングの形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993270361
Publication number (International publication number)：1995140311
Application date： Oct. 28, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：
【要約】【目的】 感光性光導波路において高品質のブラッググレーティングを製造する簡単な方法を提供する。【構成】 屈折率グレーティングは、特別に設計されたシリカガラス位相グレーティングマスクを用いる光ファイバーのコアに光で印されるものである。位相マスクは、上記光ファイバーに極めて接近している。垂直入射において、紫外線を用いるレーザ照射は、光ファイバー中心に位相マスクにより形成される干渉パターンを光で印する(光で生じる)。
Claim (excerpt)：
光媒体中にブラッググレーティングを形成する方法であって、シリカガラス位相グレーティングマスクを感光性光媒体に隣接かつ平行に配列し、平行ライトビームをマスクを介して上記媒体へ供給するブラッググレーティング形成方法。
IPC (4)：
G02B 5/18
, G02B 6/00 301
, G02B 6/10
, G02F 1/01
Cited by examiner (8)
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