Pat

J-GLOBAL ID：200903010391374393

像形成方法

Inventor： 安井 正秀 ,  小林 袈裟直
Applicant, Patent owner： 富士ハントエレクトロニクステクノロジ-株式会社 ,  富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995169812
Publication number (International publication number)：1997022652
Application date： Jul. 05, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】本発明は、プラズマディスプレイの蛍光体等の像形成材料を微粒子の形で用いる像形成方法を提供するものであり、像形成材料の粒子径を選ぶことによって像形成材料層の厚みを容易に変更できる。また、本発明は、光不透過性あるいは光を通し難い材料で今までフォトリソグラフィー法で作ることが難しかった材料を用いたパターン形成にも適している。【解決手段】本発明は、活性光の照射により粘着性が変化する組成物の層に露光を与えた後、像形成材料用微粒子を散布し、上記組成物の層に付着しなかった微粒子を除去し、次いで加熱して像形成微粒子を基板に固着させることを特徴とする像形成方法である。

Claim (excerpt)：

活性光の照射により粘着性が変化する組成物の層に露光を与えた後、像形成材料用微粒子を散布し、上記組成物の層に付着しなかった微粒子を除去し、次いで加熱して像形成微粒子を基板に固着させることを特徴とする像形成方法。

IPC (3)：

H01J 9/227 ,  G03F 7/004 523 ,  G03F 7/28

FI (3)：

H01J 9/227 C ,  G03F 7/004 523 ,  G03F 7/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 特開平2-056825
  
• 特開平1-298625
  
• 特開昭55-032332
  
• 特開昭62-076239
  
• 特開昭57-158923
  
• 特開昭62-157637
  
• 特開昭64-076640