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J-GLOBAL ID:200903010400349879
半導体レーザ及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992189075
Publication number (International publication number):1994037390
Application date: Jul. 16, 1992
Publication date: Feb. 10, 1994
Summary:
【要約】【目的】 安定な横モード制御型の高出力半導体レーザ素子を提供する。【構成】 単一横モード制御型半導体レーザ用結晶構造において、第二クラッド層6のリッジ部側面に第二クラッド層6と同じ材料で構成された高抵抗領域6aを有するレーザ素子構造とする。
Claim (excerpt):
結晶基板上に、N型のクラッド層と活性層と第一のP型クラッド層よりなるダブルへテロ構造を含み、さらに前記第一のP型クラッド層上にメサストライプ形状の第二のクラッド層を有し、前記メサストライプ状に形成された第二のクラッド層の側面が高抵抗である事を特徴とする半導体レーザ素子。
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